講座主題：原子層沉積技術(shù)在有機(jī)光電子器件的應(yīng)用探索
專(zhuān)家姓名：段羽
工作單位：吉林大學(xué)
講座時(shí)間：2023年10月17日 8:30-10:00
講座地點(diǎn)：物電學(xué)院1511報(bào)告廳
主辦單位：煙臺(tái)大學(xué)物理與電子信息學(xué)院
內(nèi)容摘要：
鈣原子層沉積（Atomic layer deposition，ALD）是一種利用自限制反應(yīng)在低溫下沉積出厚度精確可控且均勻致密的薄膜的技術(shù)，它可以實(shí)現(xiàn)對(duì)柔性光電子器件的高效封裝。本報(bào)告將介紹我們研究團(tuán)隊(duì)圍繞ALD開(kāi)展的關(guān)于有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）和鈣鈦礦光伏器件的薄膜封裝，提高其耐水耐氧能力和壽命的研究，以及利用ALD發(fā)展的新型電致反光器件等的研究進(jìn)展。分析了如何優(yōu)化ALD材料和工藝參數(shù)，提高薄膜質(zhì)量和均勻性的方法，以及ALD實(shí)現(xiàn)柔性光電子器件的封裝過(guò)程中的科學(xué)問(wèn)題和產(chǎn)業(yè)應(yīng)用所面臨的挑戰(zhàn)。
主講人介紹：
段羽，吉林大學(xué)唐匡特聘教授，博士生導(dǎo)師。聚焦光電子器件結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和工藝制備技術(shù)，發(fā)表論文150余篇，申請(qǐng)專(zhuān)利50余項(xiàng)，擔(dān)任《Journal electronic materials》責(zé)任編輯。作為項(xiàng)目負(fù)責(zé)人承擔(dān)了Z裝備部，J委科技委等，科技部以及國(guó)家自然科學(xué)基金等多項(xiàng)國(guó)家和省部級(jí)項(xiàng)目10余項(xiàng)，并承擔(dān)了華為和京東方等國(guó)內(nèi)知名企業(yè)的低溫原子層沉積的技術(shù)開(kāi)發(fā)。獲中國(guó)商業(yè)聯(lián)合會(huì)科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)，吉林省科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)，吉林省教育成果一等獎(jiǎng)，入選第七批長(zhǎng)白慧谷人才，吉林省青年科技獎(jiǎng)，長(zhǎng)春市突出貢獻(xiàn)專(zhuān)家，吉林省突出貢獻(xiàn)專(zhuān)家。
